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半導體參雜用的三氧化二硼有什么要求
首先,要保證摻雜劑的純度,三氧化二硼可以用涂布法。可以用SiO2的乳膠--即烷氧基硅烷水解聚合物,作為有一定黏度的涂布的材料。然后,加入溶劑(乙醇,酯類)與三氧化二硼相調和,涂布于半導體上。
一般而言,此類半導體是Si 材料。對于化合物半導體,問題就沒有那樣簡單,如III-V、II-VI 、IV-VI族化合物半導體等,就需要另外方法去處理。如離子注入等等。
僅以硅材料而言,方法還有:如,三氧化二硼、BN的高溫氧化。也有用硼酸三甲酯、乙硼烷、三溴化硼等等的氧化,沉淀和擴散。但是摻雜劑的純度一定要高。
用做硅酸鹽分解時的助融劑。半導體材料的摻雜劑,耐熱玻璃器皿和油漆耐火添加劑,在冶金工業(yè)上用于合金鋼的生產,用做有機合成的催化劑,高溫用潤滑劑的添加劑,也可用于環(huán)保方面。
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