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氮化硼為什么那么抗磨

文章出處: 天元航材    責(zé)任編輯: 天元化工新材廠家    發(fā)布時(shí)間:2018-06-07 17:31:15    點(diǎn)擊數(shù):82    【
[導(dǎo)讀]: 氮化硼制品的制造方法是,熱處理湍層的BN粉末以降低其氧含量至5—8%(介石墨的BN),洗滌經(jīng)熱處理的粉末,將其與5—8%非晶形的硼混合,將此混合物成型,用流體動(dòng)力方法壓實(shí)該成型體,以及反...

氮化硼為什么那么抗磨

氮化硼制品的制造方法是,熱處理湍層的BN粉末以降低其氧含量至5—8%(介石墨的BN),洗滌經(jīng)熱處理的粉末,將其與5—8%非晶形的硼混合,將此混合物成型,用流體動(dòng)力方法壓實(shí)該成型體,以及反應(yīng)燒結(jié)已壓實(shí)的成型體,以制出所述的制品。之后將此制品埋入BN與SiC的粉末混合物中和進(jìn)行熱處理,以吸收殘余的B2O3。此后,將此制品浸漬低粘度的甲基硅烷類的低聚物(MW<1000),所選用的低聚物在熱解時(shí)可以產(chǎn)生高比例的SiC,并將該制品進(jìn)行熱處理,以使其孔隙中通過整個(gè)厚度均勻地充滿SiC。

氮化硼H型

氮化硼(BN)薄膜的場發(fā)射特性與不同基底偏壓和不同膜厚的關(guān)系.在磁控濺射反應(yīng)器中,使用高純六角氮化硼(h-BN)靶,通入Ar和N2的混合氣體,制備出了納米BN薄膜.濺射是在基底加熱470℃和總壓力為1.2Pa的條件下進(jìn)行的.在超高真空系統(tǒng)中測量了不同膜厚和不同基底偏壓的BN薄膜的場發(fā)射特性,發(fā)現(xiàn)BN薄膜的場發(fā)射特性與基板偏壓和膜厚關(guān)系很大。

介石墨的氮化硼粉與除了單質(zhì)硼粉以外的反應(yīng)燒結(jié)劑的 混合物制造氮化硼陶瓷制品的方法,其中包括將該混合物成形 為制品的形狀,在壓力下將已成形的混合物壓實(shí)和將此已壓實(shí) 的混合物在真空或惰性或氮?dú)獾臍夥障路磻?yīng)燒結(jié),其特征在于 該介石墨的氮化硼含化學(xué)鍵合氧按質(zhì)量從5%到10%,所述 的反應(yīng)燒結(jié)劑按化學(xué)計(jì)量比至少相當(dāng)于該化學(xué)鍵合氧,以及該 反應(yīng)燒結(jié)劑能與現(xiàn)有的B、N和/或O在燒結(jié)條件下起化學(xué)反 應(yīng),以形成適當(dāng)?shù)碾y熔化合物加上容許的小部分揮發(fā)性產(chǎn)物。

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