氮化硼復(fù)合材料制備工藝

天元航材化工原料廠家的小編今天給大家介紹下關(guān)于氮化硼復(fù)合材料制備工藝的相關(guān)介紹，天元航材是一家生產(chǎn)高溫氮化硼的氮化硼生產(chǎn)廠家，已有51年的生產(chǎn)工藝經(jīng)驗了，氮化硼與復(fù)合材料之間有什么聯(lián)系呢，接下來就一起來探討探討吧！

復(fù)合材料的使用可以追溯到遠古時代。用稻草或麥草加固的粘土和已經(jīng)使用了數(shù)百年的鋼筋混凝土都是由這兩種材料組合而成的。1940年代，由于航空工業(yè)的需要，開發(fā)了玻璃纖維增強塑料，自復(fù)合材料這一名稱出現(xiàn)。復(fù)合材料是利用先進的材料制備技術(shù)優(yōu)化而成的新型材料。一般定義的復(fù)合材料應(yīng)滿足以下條件：
1、復(fù)合材料必須是人造的，根據(jù)人的需要設(shè)計和制造；
2、復(fù)合材料必須由兩種或兩種以上化學(xué)物理性質(zhì)不同的材料成分組成，在組合的設(shè)計、比例和分布形式上，各成分之間有明顯的界面；
3、具有結(jié)構(gòu)設(shè)計性，可用于復(fù)合結(jié)構(gòu)設(shè)計；
4、復(fù)合材料不僅保持了各組分材料性能的優(yōu)勢，而且通過各組分性能的互補性和相關(guān)性可以獲得單一組分材料無法達到的綜合性能。
高分子材料具有易加工成型、密度低、耐腐蝕、耐熱、介電常數(shù)低和機械性能優(yōu)良等特點，使其廣泛應(yīng)用于電子設(shè)備、航空航天等領(lǐng)域。而電子元件的高集成度尤其需要良好的散熱材料，非常耀眼的高分子導(dǎo)熱添加劑，氮化硼被認為是最理想的一種。接下來給大家介紹一下氮化硼復(fù)合材料的制備過程
根據(jù)復(fù)合材料的設(shè)計成分、結(jié)構(gòu)和性能參數(shù)，需要采用不同的制備方法。目前常用的制備BN復(fù)合材料的方法有以下幾種：
1、前驅(qū)體浸漬裂解工藝
預(yù)陶瓷聚合物浸漬裂解PIP技術(shù)是有機或無機體通過高溫?zé)峤庵苽涠嗫滋沾傻姆椒ǖ南闰?qū)，具有良好的可制造性，制備溫度低且預(yù)陶瓷聚合物分子可以設(shè)計、制備陶瓷纖維、陶瓷基復(fù)合材料、陶瓷涂層和超細陶瓷粉體等形式的陶瓷材料，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，近年來發(fā)展迅速。
2、高溫?zé)Y(jié)工藝
高溫?zé)Y(jié)工藝是復(fù)合材料的傳統(tǒng)制備工藝，以各種粉體為主要原料，制備的復(fù)合材料大多為顆粒增強。包括反應(yīng)燒結(jié)、熱壓燒結(jié)、放電等離子燒結(jié)等。它具有密度高、材料制備時間短、工藝簡單成熟等優(yōu)點。
3、溶液浸涂工藝
溶液浸漬涂層工藝通常用于在纖維表面制備BN涂層，以提高復(fù)合材料的力學(xué)性能。通常使用硼酸作為硼源和氮源材料來制備前驅(qū)體溶液，在光纖上浸涂后通過熱處理反應(yīng)生成BN涂層。
4、氣相沉積滲透工藝
PVD物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法CVD和化學(xué)氣相滲透CVI是通過在基材或纖維表面沉積氣體分子的方法制備復(fù)合材料的技術(shù)，根據(jù)沉積形態(tài)的不同，可分為物理氣相沉積法沉積和化學(xué)氣相沉積兩種方法制備薄膜、涂層材料，可以在低溫和低壓下根據(jù)不同的要求控制涂層的成分厚度和結(jié)構(gòu)。
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