氮化硼導(dǎo)熱膜

天元航材是一家擁有50余年的生產(chǎn)技術(shù)工藝沉淀的化工原料廠家，主營產(chǎn)品有六方氮化硼（HBN、白石墨烯）等氮化硼化工原料產(chǎn)品。今天，小編給大家介紹下關(guān)于氮化硼導(dǎo)熱膜的相關(guān)知識，六方氮化硼是一類優(yōu)秀的導(dǎo)熱材料，那么您知道氮化硼導(dǎo)熱膜如何制備的嗎？一起來看看吧！

隨著通信技術(shù)和電子技術(shù)等行業(yè)的快速發(fā)展，能量轉(zhuǎn)換和存儲、集成電子器件、發(fā)光二極管、航空航天等領(lǐng)域的散熱問題日益突出，因此對電子元器件有增加散熱能力的電絕緣聚合物材料的需求也在增加。傳統(tǒng)的導(dǎo)熱材料是金屬材料，具有導(dǎo)熱性高、強度高、耐磨性好、加工簡單、成本低、可實現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)等優(yōu)點。然而，金屬材料具有柔韌性差、密度高、熱膨脹系數(shù)高、易腐蝕，且在高電流密度條件下工作時間長，容易導(dǎo)致功能設(shè)備失效，縮短設(shè)備的使用壽命，不能滿足輕、小、薄的電子產(chǎn)品的散熱要求等缺點。

因此，近年來，為了從根本上解決散熱問題，將導(dǎo)熱填料與聚酰亞胺聚合物共混制備高導(dǎo)熱性薄膜已成為提高聚酰亞胺薄膜傳熱性能的策略之一。常用的導(dǎo)熱填料為以下三種：
1、碳材料：石墨烯、碳納米管等；
2、陶瓷類材料：如氮化硼、氮化硅等；
3、金屬材料：如銅、氧化鋁等；

六方氮化硼作為一種二維層狀材料，具有與石墨相似的晶體結(jié)構(gòu)，也被稱為白色石墨。此外六方氮化硼的二維結(jié)構(gòu)，又稱氮化硼納米片，具有優(yōu)異的導(dǎo)熱性、機械強度等性能，并具有優(yōu)良的絕緣性、低介電系數(shù)和低介電損耗。

下面介紹一種改性六方氮化硼導(dǎo)熱薄膜的生產(chǎn)方法流程：
1)將氮化硼與乙醇按一定比例攪拌均勻,根據(jù)超聲波協(xié)助剝離法獲得六方氮化硼納米片(BNNS),
2)在氮化硼納米片乙醇溶液中先后添加偶聯(lián)劑,催化劑,超支化聚酰胺(HPBA),獲得hBNNSgHPBA
3)將hBNNSgHPBA與脫蛋白天然橡膠膠乳(DPNRL)攪拌均勻,常溫固化成膜。

下面介紹一種六方氮化硼散熱膜以及生產(chǎn)方法流程：
1：取1800g六方氮化硼粉末、200g聚偏二氟乙烯和8000ml二甲基乙酰胺共混，在130℃條件下混合，以1000rpm的速率攪勻2小時后降溫至常溫，獲得第一分離漿料。
2：將第一分離漿料加入到大型夾套反應(yīng)器中，該反應(yīng)器以適當?shù)牧魉龠B通溫度為5℃的循壞水。將高功率超聲波探針插入漿料中至合適位置，待密封完全后以800w的功率超聲處理6秒，停止20秒后，設(shè)定程序反復(fù)此操作。待超聲處理72小時后，將會得到的二維氮化硼分離漿料從夾套反應(yīng)器中取出靜置。在二維氮化硼分離漿料靜置24小時后，取液面總高度頂層90％部位的分散漿料當做頂層分離漿料，并根據(jù)使用旋轉(zhuǎn)粘度計對所得到的頂層分離漿料開展黏度定性分析，其黏度為1940mpa·s,而底層10％部分的底層分離漿料經(jīng)適當?shù)臐舛葮硕ê蠹尤胂乱慌紊a(chǎn)的第一分離漿料中重新進行高速剪切剝離加工處理。
3：取30微米厚的聚酰亞胺薄膜當做底材，首先確定底材表層的清潔水平，并根據(jù)使用丙酮對相對應(yīng)部位擦拭對底材進行清洗；再將底材開展紫外-臭氧處理，進而進一步的對底材表層進行清洗并提高底材表層的潤濕性。將其次分離漿料開展真空攪勻除泡處理后，擠出至精密滾涂系統(tǒng)內(nèi)開展涂覆加工處理，獲得負荷在底材上的濕膜。滾涂的過程中，濕膜厚度大概為300微米。將濕膜在60～120℃的梯度干燥處理20分鐘左右獲得粘在聚酰亞胺底材表層的氮化硼薄膜層。
4：在該氮化硼薄膜層遠離聚酰亞胺底材表層的一邊加上一層單層含有離型膜的雙面膠膜，雙面膠膜與氮化硼薄膜層相觸碰，并且通過10mpa壓力的常溫平板靜壓20分鐘，獲得終產(chǎn)品氮化硼散熱膜。

螺旋測微計對氮化硼散熱膜的每個膜層開展測定，測出氮化硼薄膜層的厚約45微米，雙層離型膜層的總厚約60微米，雙面膠層的厚約5微米，總厚約110微米。

今天，小編就給大家介紹到這里了，如有疑問，歡迎致電咨詢小編！